Brief: Ανακαλύψτε το οπτικό υπόστρωμα Wafer LaAlO3 Round, ένα υπόστρωμα διπλής όψης γυαλισμένο πειραματικής φάσης υψηλής πίεσης, ιδανικό για λεπτά φιλμ υπεραγωγών υψηλής θερμοκρασίας και εφαρμογές μικροκυμάτων. Ιδανικό για ηλεκτρονικές συσκευές, κατάλυση και πολλά άλλα.
Related Product Features:
Υπόστρωμα μονόκρυστάλλου υπεραγωγού υψηλής θερμοκρασίας για επιταξιακή ανάπτυξη.
Εξαιρετική αντιστοιχία πλέγματος με υλικά δομής περοβσκίτη.
Χαμηλή διηλεκτρική απώλεια κατάλληλη για εφαρμογές μικροκυμάτων και διηλεκτρικού συντονισμού.
Ο μικρός συντελεστής θερμικής διαστολής εξασφαλίζει σταθερότητα σε μεταβαλλόμενες θερμοκρασίες.
Καλή χημική σταθερότητα, αδιάλυτο σε ανόργανα οξέα στους 25°C.
Διαφανής έως καφέ εμφάνιση με ορατά δίδυμα σε γυαλισμένο υπόστρωμα.
Ευρύ ενεργειακό χάσμα και μεγάλη ειδική επιφάνεια για βελτιωμένη απόδοση.
Καλή θερμική σταθερότητα, σημείο τήξης 2080°C.
Ερωτήσεις:
Ποιες είναι οι κύριες εφαρμογές του οπτικού υποστρώματος Round LaAlO3 Wafer;
Χρησιμοποιείται σε ηλεκτρονικές συσκευές, κατάλυση, κυψέλες καυσίμου υψηλής θερμοκρασίας, κεραμικά, επεξεργασία λυμάτων και ως υλικό υποστρώματος για επιταξιακή ανάπτυξη λεπτών φιλμ υπεραγωγών υψηλής θερμοκρασίας.
Ποια είναι τα πλεονεκτήματα της χρήσης του LaAlO3 ως υλικό υποστρώματος;
Το LaAlO3 προσφέρει μικρή διηλεκτρική σταθερά, μικρές διηλεκτρικές απώλειες, καλή προσαρμογή πλέγματος, μικρό συντελεστή θερμικής διαστολής, καλή χημική σταθερότητα, ευρύ ενεργειακό χάσμα, μεγάλη ειδική επιφάνεια και καλή θερμική σταθερότητα.
Πώς αποδίδει το υπόστρωμα LaAlO3 σε υψηλές θερμοκρασίες;
Το LaAlO3 έχει υψηλό σημείο τήξης 2080°C και καλή θερμική σταθερότητα, καθιστώντας το κατάλληλο για εφαρμογές υψηλής θερμοκρασίας όπως κυψέλες καυσίμου και ηλεκτρονικές συσκευές.