

Σπίτι

Σχετικά με εμάς

Προφίλ εταιρείας

Επισκέψεις στο εργοστάσιο

Έλεγχος ποιότητας

Γενικές ερωτήσεις

προϊόντα

Οπτικά κρύσταλλα γεννητριών

Μονοκρυσταλλικά υποστρώματα

Κρυστάλλοι πιεζοηλεκτρικής επίδρασης

Απομονωτής Φαραδή

Κρυστάλλοι σπινθηροβολίας

Κρυστάλλοι λέιζερ

Κύκλος Q του Pockels

Άλλοι μονοκρυστάλλοι

Κρύσταλλο TGG

Κρύσταλλο TSAG

Κρυστάλλιο GGG

Σφραγίδα LaAlO3

Q Κρυστάλλοι διακόπτη

λύσεις

Ιστολόγιο

Επικοινωνήστε μαζί μας

απόσπασμα

ND:YLF Laser Crystal Rod χρησιμοποιείται σε 1047nm και 1053nm

04:32

ND:YLF Laser Crystal Rod χρησιμοποιείται σε 1047nm και 1053nm

Χωρίς ντόπινγκ COC Czochralski 0,5 mm Si Single Crystal Silicon Wafer

00:32

Χωρίς ντόπινγκ COC Czochralski 0,5 mm Si Single Crystal Silicon Wafer

Στρογγυλό LaAlO3 Wafer Οπτικό υπόστρωμα Πειραματική φάση υψηλής πίεσης Διπλή πλευρά γυαλισμένη

00:32

Στρογγυλό LaAlO3 Wafer Οπτικό υπόστρωμα Πειραματική φάση υψηλής πίεσης Διπλή πλευρά γυαλισμένη

Co:Οπτικό υπόστρωμα σπινέλ

02:07

Co:Οπτικό υπόστρωμα σπινέλ

Μεγάλη μετάδοση Κουβικών Μαγνητοφωτιστικών Κρυστάλλων 1064nm

00:15

Μεγάλη μετάδοση Κουβικών Μαγνητοφωτιστικών Κρυστάλλων 1064nm

Απομονωτές και περιστροφείς Faraday Μαγνητο-Οπτικοί Κρυστάλλοι Τερβίου Γκαλλίου Γρανέτ Κρυστάλλος TGG

00:31

Απομονωτές και περιστροφείς Faraday Μαγνητο-Οπτικοί Κρυστάλλοι Τερβίου Γκαλλίου Γρανέτ Κρυστάλλος TGG

Αντικαταστατέο οπτικό υπόστρωμα SGGG Gadolinium Gallium Garnet

Μονοκρυσταλλικά υποστρώματα

2023-02-25

655 απόψεις

Επικοινωνήστε τώρα

Συμμετοχή

#laalo3 υπόστρωμα #στοιχεία ενιαίου κρυστάλλου #lanthanum αργιλικό άλας

Αντικαταστατέο οπτικό υπόστρωμα SGGG Gadolinium Gallium Garnet Το gadolinium gallium garnet (GGG) είναι ένα ειδικό υπόστρωμα για μαγνητο-οπτικά φλίντ.και το βασικό στοιχείο είναι YIG ή BIG ταινία τοπο... Δείτε περισσότερα

Μηνύματα επισκέπτη Αφήστε μήνυμα.

Αντικαταστατέο οπτικό υπόστρωμα SGGG Gadolinium Gallium Garnet

Αντικαταστατέο οπτικό υπόστρωμα SGGG Gadolinium Gallium Garnet

Επικοινωνήστε τώρα

Μάθετε Περισσότερα

Σχετικά βίντεο

ND:YLF Laser Crystal Rod χρησιμοποιείται σε 1047nm και 1053nm

ND:YLF Laser Crystal Rod χρησιμοποιείται σε 1047nm και 1053nm

ND:YLF Laser Crystal Rod χρησιμοποιείται σε 1047nm και 1053nm

Κρυστάλλοι λέιζερ

Χωρίς ντόπινγκ COC Czochralski 0,5 mm Si Single Crystal Silicon Wafer

Χωρίς ντόπινγκ COC Czochralski 0,5 mm Si Single Crystal Silicon Wafer

Χωρίς ντόπινγκ COC Czochralski 0,5 mm Si Single Crystal Silicon Wafer

Μονοκρυσταλλικά υποστρώματα

Στρογγυλό LaAlO3 Wafer Οπτικό υπόστρωμα Πειραματική φάση υψηλής πίεσης Διπλή πλευρά γυαλισμένη

Στρογγυλό LaAlO3 Wafer Οπτικό υπόστρωμα Πειραματική φάση υψηλής πίεσης Διπλή πλευρά γυαλισμένη

Στρογγυλό LaAlO3 Wafer Οπτικό υπόστρωμα Πειραματική φάση υψηλής πίεσης Διπλή πλευρά γυαλισμένη

Μονοκρυσταλλικά υποστρώματα

Co:Οπτικό υπόστρωμα σπινέλ

Co:Οπτικό υπόστρωμα σπινέλ

Co:Οπτικό υπόστρωμα σπινέλ

Μονοκρυσταλλικά υποστρώματα

Μεγάλη μετάδοση Κουβικών Μαγνητοφωτιστικών Κρυστάλλων 1064nm

Μεγάλη μετάδοση Κουβικών Μαγνητοφωτιστικών Κρυστάλλων 1064nm

Μεγάλη μετάδοση Κουβικών Μαγνητοφωτιστικών Κρυστάλλων 1064nm

Οπτικά κρύσταλλα γεννητριών

Απομονωτές και περιστροφείς Faraday Μαγνητο-Οπτικοί Κρυστάλλοι Τερβίου Γκαλλίου Γρανέτ Κρυστάλλος TGG

Απομονωτές και περιστροφείς Faraday Μαγνητο-Οπτικοί Κρυστάλλοι Τερβίου Γκαλλίου Γρανέτ Κρυστάλλος TGG

Απομονωτές και περιστροφείς Faraday Μαγνητο-Οπτικοί Κρυστάλλοι Τερβίου Γκαλλίου Γρανέτ Κρυστάλλος TGG

Οπτικά κρύσταλλα γεννητριών

Ειδικότερα, οι ενδείξεις που αναφέρονται στην παράγραφο 1 πρέπει να λαμβάνονται υπόψη για την αξιολόγηση της συμμόρφωσης.

Ειδικότερα, οι ενδείξεις που αναφέρονται στην παράγραφο 1 πρέπει να λαμβάνονται υπόψη για την αξιολόγηση της συμμόρφωσης.

Ειδικότερα, οι ενδείξεις που αναφέρονται στην παράγραφο 1 πρέπει να λαμβάνονται υπόψη για την αξιολόγηση της συμμόρφωσης.

Απομονωτής Φαραδή

Ευρύ εύρος μήκους κύματος εκπομπής από 1350 nm έως 1600 nm σε κρυστάλλινη ράβδο λέιζερ Cr4 YAG για διάφορες εφαρμογές

Ευρύ εύρος μήκους κύματος εκπομπής από 1350 nm έως 1600 nm σε κρυστάλλινη ράβδο λέιζερ Cr4 YAG για διάφορες εφαρμογές

Ευρύ εύρος μήκους κύματος εκπομπής από 1350 nm έως 1600 nm σε κρυστάλλινη ράβδο λέιζερ Cr4 YAG για διάφορες εφαρμογές

Κρυστάλλοι λέιζερ

5.91g/Cm3 Πυκνότητα Μαγνητο-Οπτικά υλικά TSAG Cryatal 400 - 1600nm μήκος κύματος

5.91g/Cm3 Πυκνότητα Μαγνητο-Οπτικά υλικά TSAG Cryatal 400 - 1600nm μήκος κύματος

5.91g/Cm3 Πυκνότητα Μαγνητο-Οπτικά υλικά TSAG Cryatal 400 - 1600nm μήκος κύματος

Οπτικά κρύσταλλα γεννητριών

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG Οπτικό Υπόστρωμα

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG Οπτικό Υπόστρωμα

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG Οπτικό Υπόστρωμα

Κρυστάλλιο GGG

Επικάλυψη AR Παθητική Q Επικοινωνίες Cr4 + Yag Laser Rod Για ομορφιά Laser Machine

Επικάλυψη AR Παθητική Q Επικοινωνίες Cr4 + Yag Laser Rod Για ομορφιά Laser Machine

Επικάλυψη AR Παθητική Q Επικοινωνίες Cr4 + Yag Laser Rod Για ομορφιά Laser Machine

Κρυστάλλοι λέιζερ